Controlador de caudal Turbo™ 2950

de laboratoriode alta precisión

Basados en tecnología probada en el campo, los controladores de flujo de líquido MSP Turbo™ 2950 fueron diseñados para emparejarse con los vaporizadores MSP Turbo II™ para proporcionar una solución confiable y de alto rendimiento de entrega de vapor líquido para procesos de deposición de películas delgadas de semiconductores (incluyendo CVD, PECVD, ALD y MOCVD). Los controladores de flujo de líquido Turbo™ 2950 contienen un sensor de flujo de alta precisión y alta velocidad diseñado a medida y una electrónica de control de flujo meticulosamente diseñada para proporcionar el rendimiento de clase mundial necesario para el procesamiento avanzado de semiconductores. - Control de Flujo Preciso Los LFC 2950 integran sensores de flujo y electrónica de control de líquido para regular la válvula Piezo en los vaporizadores Turbo II™ de MSP. Para vaporizadores que carecen de una válvula Piezo a bordo, considere la serie 2950V Turbo™ LFC para un control de flujo efectivo. - Aplicaciones - Procesos de deposición de películas delgadas de semiconductores - Deposición química de vapor (CVD) - Deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD) - Deposición de capas atómicas (ALD) - Deposición química de vapor de metales orgánicos (MOCVD) - Aplicaciones con requisitos de tasa de flujo constante - Características y Beneficios - Tasa de flujo fija - Precisión y linealidad excepcionales - Tiempo de respuesta ultra rápido - Repetibilidad superior - Opciones de rango de flujo amplio - Modelos Turbo™ LFC Disponibles - Número de modelo: 2950-002, 2950-01, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30 - Escala completa TEOS* (g/min): 0.2, 1, 5, 10, 20, 30 - Escala completa TEMAZr (g/min): n/a, 0.19, 0.95, 1.9, 3.8, 5.7 - Escala completa H2O (g/min): 0.14, 0.73, 3.6, 7.3, 14, 21 *El flujo máximo nominal se determina utilizando TEOS como líquido de referencia a 23±2°C. El rango de tasa de flujo es una función del líquido especificado. - Marca: TSI (MSP Turbo™) - Modelo: 2950-01 (otros modelos disponibles: 2950-002, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30) - Aplicación: Deposición de películas delgadas de semiconductores (CVD, PECVD, ALD, MOCVD) - Características: Tasa de flujo fija, alta precisión, respuesta rápida, repetibilidad, amplio rango