Sistema de producción Atomfab

Atomfab es el sistema ALD de producción remota por plasma más rápido del mercado. SOLUCIONES PARA SUS NECESIDADES DE PRODUCCIÓN CoO competitivo Mantenimiento rápido y sencillo Excelente uniformidad de la película Alta calidad del material Bajo daño del sustrato Ciclos más rápidos, alto rendimiento Manipulación de obleas agrupable y automatizada RENDIMIENTO La tecnología ALD de Atomfab ofrece películas ultrafinas controladas con precisión para aplicaciones avanzadas a escala nanométrica, con revestimiento conforme de estructuras de sustratos sensibles. VENTAJAS DEL PROCESO PARA LA PASIVACIÓN DE DISPOSITIVOS DE POTENCIA Y RF Procesos garantizados configurados por nuestros ingenieros Asistencia de por vida para procesos nuevos o adicionales Procesado por plasma de bajo daño Deposición de alta calidad con baja contaminación de la película Bajos niveles de partículas Cortos tiempos de exposición al plasma que permiten un alto rendimiento Pretratamientos superficiales con plasma VENTAJAS DEL PLASMA ALD PARA DISPOSITIVOS DE GaN, POTENCIA Y RF Con pretratamiento de plasma antes de la deposición para mejorar la calidad de la interfaz Deposición uniforme y de bajo daño ALD por plasma remoto con energía iónica controlada de casi cero a 30 eV Pasivación ALD, dieléctrico de puerta mediante películas de Al2O3. ASISTENCIA GLOBAL AL CLIENTE Oxford Instruments se compromete a proporcionar un soporte global al cliente completo, flexible y fiable. Ofrecemos un servicio de excelente calidad durante toda la vida útil de su sistema. El software de diagnóstico remoto proporciona un diagnóstico y resolución de fallos rápido y sencillo Disponemos de contratos de asistencia que se adaptan al presupuesto y a la situación Repuestos globales en ubicaciones estratégicas para una respuesta rápida