Sistema de producción PlasmaPro 80 PECVD

PlasmaPro 80 es un sistema compacto y compacto que ofrece soluciones versátiles de grabado y deposición con una cómoda carga abierta. Es fácil de instalar y de utilizar, sin comprometer la calidad del proceso. El diseño de carga abierta permite cargar y descargar rápidamente las obleas, lo que resulta ideal para la investigación, la creación de prototipos y la producción de bajo volumen. Permite procesos de alto rendimiento mediante la refrigeración optimizada de los electrodos y un excelente control de la temperatura del sustrato. El diseño de carga abierta permite cargar y descargar las obleas con rapidez Excelente control del grabado y determinación de la velocidad Excelente uniformidad de la temperatura de la oblea Obleas de hasta 200 mm Bajo coste de propiedad Fabricada según las normas Semi S2/S8 Aplicaciones PECVD de alta calidad de nitruro de silicio y dióxido de silicio para fotónica, capas dieléctricas, pasivación y muchos otros usos Deposición y grabado de máscaras duras para la producción de LED de alto brillo Características Ocupa poco espacio - Fácil de ubicar Refrigeración optimizada de los electrodos - Control de la temperatura del sustrato Configuración de bombeo radial (axialmente simétrico) de alta conductancia - Se garantiza una mayor uniformidad del proceso y los índices son Trazabilidad e historial de las condiciones de la cámara y del proceso Turbobomba de acoplamiento cerrado - Alta velocidad de bombeo y excelente presión de base Facilidad de acceso a los componentes clave - Mayor facilidad de servicio y mantenimiento Sistema de control X20 - Aumenta enormemente la recuperación de datos y proporciona un emparejamiento más rápido y repetible Diagnóstico de averías y herramientas mediante software frontal - Diagnóstico rápido de averías