Sistema de producción PlasmaPro 80 ICP RIE

El PlasmaPro 80 ICP es un sistema compacto y compacto que ofrece soluciones versátiles de grabado ICP con una cómoda carga abierta. Es fácil de instalar y de utilizar, sin comprometer la calidad del proceso. El diseño de carga abierta permite cargar y descargar rápidamente las obleas, lo que resulta ideal para la investigación, la creación de prototipos y la producción de bajo volumen. Permite procesos de alto rendimiento mediante la refrigeración optimizada de los electrodos y un excelente control de la temperatura del sustrato. El diseño de carga abierta permite cargar y descargar las obleas con rapidez Excelente control del grabado y determinación de la velocidad Excelente uniformidad de la temperatura de la oblea Obleas de hasta 200 mm Bajo coste de propiedad Fabricada según las normas Semi S2/S8 Aplicaciones Procesos de grabado III-V Bosch de silicio y procesos de criograbado Grabado de SiO2 y cuarzo Análisis de fallos y desprocesamiento de grabado en seco, desde el grabado de chips y troqueles empaquetados hasta el grabado de obleas de 200 mm Grabado y deposición de máscaras duras para la producción de LED de alta luminosidad Características Ocupa poco espacio - Fácil de ubicar Refrigeración optimizada de los electrodos - Control de la temperatura del sustrato Configuración de bombeo radial (axialmente simétrico) de alta conductancia - Se garantiza una mayor uniformidad del proceso y los índices son Trazabilidad e historial de las condiciones de la cámara y del proceso Turbobomba de acoplamiento cerrado - Alta velocidad de bombeo y excelente presión de base Facilidad de acceso a los componentes clave - Mayor facilidad de servicio y mantenimiento Sistema de control X20 - Aumenta enormemente la recuperación de datos y proporciona un emparejamiento más rápido y repetible Diagnóstico de averías y herramientas mediante software frontal - Diagnóstico rápido de averías