innovador espaciador intercorporal de expansión lateral diseñado para proporcionar las ventajas de un espaciador ALIF a través de un abordaje TLIF. Este diseño único maximiza la huella del implante, la superficie y el volumen del injerto desde un enfoque posterior.
Características y ventajas
Abordaje MIS, huella máxima
Se expande lateralmente in situ, optimizando el compromiso del anillo apofisario para ayudar a reducir el hundimiento.
Amplio lecho de fusión
Una vez expandido, se crea una amplia cámara de injerto única que permite una masa de fusión claramente grande.
Resistencia a la migración
La geometría del implante expandido y el patrón de dientes ranurados están diseñados para ayudar a resistir la migración del implante.
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