La FIB-SEM Hitachi Ethos incorpora la última generación de FE-SEM con un brillo y una estabilidad del haz extraordinarios. Ethos ofrece imágenes de alta resolución a bajos voltajes combinadas con óptica iónica para un procesamiento de precisión a nanoescala.
Características principales
1. Columna FE-SEM de alto rendimiento con modo de doble lente
Observación de ultra alta resolución (modo HR: semi-in-lens)
Detección de punto final de alta precisión en tiempo real (modo FF: Field Free (modo de tiempo compartido))
2. Procesamiento de materiales de alto rendimiento
Procesamiento ultrarrápido con alta densidad de corriente iónica (corriente máxima del haz: 100 nA)
Script programable por el usuario para autoprocesamiento y observación
3. Sistema de micromuestreo
Control de la orientación de la muestra totalmente integrado para el efecto anticurtido (tecnología ACE)
Preparación de muestras TEM para láminas uniformes en cualquier orientación
4. Capacidad de triple haz, con resultados de calidad avanzada
Procesamiento de materiales con haz de iones de gas noble de baja aceleración
Funciones innovadoras que reducen los artefactos relacionados con el ion Ga y otros artefactos de fresado
5. Amplia cámara multipuerto y platina para diversas aplicaciones
Sistema apto para muestras de gran tamaño con una excepcional estabilidad de la platina
Seguimiento a larga distancia mejorado de rango completo (155 x 155 mm)
Óptica de electrones refinada y detección multiseñal
La columna Ethos SEM está compuesta por un sistema de lentes objetivo compuesto de campo magnético y electrostático configurado en dos modos de lente.
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