El nuevo sistema FIB-SEM de Hitachi, el NX9000, incorpora un diseño optimizado para el seccionamiento en serie de alta resolución real con el fin de hacer frente a las últimas demandas en análisis estructural 3D y para análisis TEM y 3DAP. El sistema FIB-SEM NX9000 permite la máxima precisión en el procesamiento de materiales para una amplia gama de áreas relacionadas con los materiales avanzados. El nuevo sistema FIB-SEM de Hitachi, el NX9000, incorpora un diseño optimizado para el seccionamiento en serie de alta resolución real para hacer frente a las últimas demandas en el análisis estructural 3D y para los análisis TEM y 3DAP. El sistema FIB-SEM NX9000 permite la máxima precisión en el procesamiento de materiales para una amplia gama de áreas relacionadas con materiales avanzados, dispositivos electrónicos, tejidos biológicos y multitud de otras aplicaciones.
Características
La columna SEM y la columna FIB están dispuestas ortogonalmente para optimizar el posicionamiento de la columna para el análisis estructural 3D.
La combinación de la fuente de electrones de emisión de campo frío de alto brillo y la óptica de alta sensibilidad permite el análisis de una amplia gama de materiales, desde tejidos biológicos hasta materiales magnéticos.
El sistema de micromuestreo y el sistema de triple haz permiten la preparación de muestras de alta calidad para aplicaciones de TEM y de sonda atómica.
Fresado iónico y observación en incidencia normal en tiempo real para una verdadera imagen analítica
La columna SEM y la columna FIB están dispuestas ortogonalmente para obtener imágenes SEM de incidencia normal de secciones transversales FIB.
La disposición ortogonal de la columna elimina la deformación del aspecto, el escorzo de las imágenes transversales y el desplazamiento del campo de visión (FOV) durante la obtención de imágenes de secciones en serie, que no pueden evitarse con los sistemas FIB-SEM convencionales.
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