Sistema de producción PlasmaPro 100

Los módulos PlasmaPro 100 RIE ofrecen grabado en seco isotrópico y anisotrópico para una amplia gama de procesos. Es adecuado para clientes de investigación y producción, ya que proporciona un entorno controlado que mejora la repetibilidad del proceso con opciones de bloqueo de carga y casete a casete. Compatible con todos los tamaños de oblea de hasta 200 mm Procesamiento de obleas individuales o por lotes con un excelente control del proceso Alto control de los gases y la potencia del plasma Cambio rápido entre tamaños de oblea Bajo coste de propiedad y facilidad de mantenimiento Excelente uniformidad, alto rendimiento y procesos de alta precisión Limpieza in situ de la cámara y punto final Electrodo de amplio rango de temperatura, de -150°C a 400°C Vista general El grabado iónico reactivo (RIE) es un proceso de grabado predominantemente físico. Se crea un plasma rico justo encima de la oblea y los iones se aceleran hacia la superficie para producir un grabado potente y altamente anisótropo. El gas entra en la parte superior de la cámara, donde una fuente de RF a nivel de la oblea lo convierte en un plasma reactivo a baja presión. Los iones interactúan con la muestra para formar subproductos o permanecen como especies sin reaccionar. Todas las especies que no reaccionan y los subproductos se eliminan de la cámara mediante la bomba de vacío para mantener un plasma rico y activo que permita mantener altas velocidades de grabado. El PlasmaPro 100 RIE suministra especies reactivas al sustrato, con una trayectoria uniforme de alta conductancia a través de la cámara, lo que permite utilizar un flujo de gas elevado manteniendo una presión baja. - Características Electrodo de amplio rango de temperatura (-150°C a +400°C) que puede enfriarse mediante nitrógeno líquido, un refrigerador de recirculación de fluidos o calentarse por resistencia.