El FIB-SEM Ethos de Hitachi incorpora un FE-SEM de última generación con un brillo y una estabilidad del haz excepcionales. Ethos ofrece imágenes de alta resolución a bajos voltajes, combinadas con óptica iónica para un procesamiento de precisión a escala nanométrica.
Características
Características principales
1. Columna FE-SEM de alto rendimiento con modo de doble lente
Observación de resolución ultraalta (modo HR: semi-in-lens)
Detección de punto final de alta precisión en tiempo real (modo FF: Field Free [modo de tiempo compartido])
2. Procesamiento de materiales de alto rendimiento
Procesamiento ultrarrápido con alta densidad de corriente iónica (corriente máxima del haz: 100 nA)
Script programable por el usuario para el procesamiento y la observación automáticos
3. Sistema de micromuestreo
Control totalmente integrado de la orientación de la muestra para evitar el efecto «anti-curtaining» (tecnología ACE)
Preparación de muestras para microscopio electrónico de transmisión (TEM) con láminas uniformes en cualquier orientación
4. Compatible con triple haz, lo que ofrece resultados de calidad avanzada
Procesamiento de materiales mediante haz de iones de gases nobles de baja aceleración
Funciones innovadoras que reducen los artefactos de fresado relacionados con los iones de Ga y de otro tipo
5. Gran cámara multipuerto y platina para diversas aplicaciones
Sistema apto para muestras de gran tamaño con una estabilidad excepcional de la platina
Seguimiento mejorado de larga distancia en todo el rango (155 x 155 mm)
Óptica electrónica perfeccionada y detección multisignal
La columna del SEM Ethos está compuesta por un sistema de lentes objetivo compuesto por campos magnéticos y electrostáticos, configurado en dos modos de lente. El modo de alta resolución (HR) permite observar la muestra con la máxima resolución al sumergirla en el campo magnético del sistema de lentes. El modo sin campo (FF) ofrece un procesamiento FIB en tiempo real para un fresado de punto final de alta precisión.
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