Sistema de recubrimiento de superficies automático EM ACE600

automatizadode laboratorio

Resumen
Prepare películas delgadas de grano fino para microscopía electrónica con la metallizadora EM ACE600. Los procesos automatizados y precisos de deposición de carbono y metal ofrecen resultados reproducibles y aumentan el rendimiento de muestras. Solo para uso en investigación.

Capacidades clave

• Coater de alto vacío configurable para múltiples fuentes: sputter, hilo de carbono, varilla de carbono y e‑beam.
• Cámara de proceso metálico de doble fuente que permite usar hasta dos fuentes diferentes en una sola corrida sin romper el vacío.
• Procesos automatizados basados en recetas y carga por puerta frontal para manipulación segura y conveniente.
• Soporte para flujos cryo: interfaz de transferencia cryo, etapa cryo y dispositivo básico de fractura para depositar en condiciones criogénicas y transferencia cryo a SEM.
• Opción de sombreado rotatorio (LARS) con fuente e‑beam y etapa LARS motorizada para deposición en ángulo bajo de estructuras nanométricas.
• Interfaz táctil basada en flujos de trabajo para ejecución simple de procesos rutinarios con un solo botón.

Recubrimiento por sputter
Obtenga recubrimientos por sputter finos y reproducibles. El sistema alcanza un excelente vacío base (< 2 x 10-6 mbar estándar) con la opción de una trampa de Meissner para llegar al régimen de 10-7 mbar. La distancia de muestra y el ángulo de recubrimiento ajustables, junto con una etapa giratoria, permiten recubrimientos uniformes y optimización del proceso según morfologías y objetivos. Diseñado para análisis SEM de alto aumento (hasta ~200kX y más).

Recubrimiento de carbono
Deposite películas de carbono ultra‑finas y homogéneas mediante evaporación de hilo de carbono, varilla de carbono o evaporación e‑beam. Leica adaptive pulsing para hilo de carbono proporciona películas amorfas precisas con control subnanométrico minimizando el impacto térmico. Adecuado para capas soporte TEM, recubrimientos de protección difusa y grandes capas homogéneas de carbono. La evaporación e‑beam está disponible para aplicaciones que requieren baja divergencia del haz, como el sombreado rotatorio.

Adaptabilidad y configuración

• Concepto optimizado de dos fuentes con puertos angulados y etapa giratoria para distribución uniforme en un plato de 100 mm.
• Selección de cabezales: hilo de carbono, varilla de carbono, e‑beam y sputter; posibilidad de glow discharge.
• Actualizable in situ con amplia selección de soportes y etapas (etapa motorizada 3‑ejes, etapas rotatorias/manuales, etapa de refrigeración dedicada).
• Platos de intercambio rápido para flujos de trabajo multipropósito en laboratorio.

Beneficios operacionales

• Carga por puerta frontal para manipulación segura de muestras sensibles.
• Fuentes ligeras y fáciles de manejar para operación diaria.
• Recetas automatizadas y procesamiento basado en recetas para reproducibilidad y mayor rendimiento.

Aplicaciones

• Imágenes SEM de alta resolución de muestras no conductoras planas o estructuradas.
• Aumento de contraste de estructuras a escala nanométrica (proteínas, ADN) mediante sombreado rotatorio y deposición metálica.
• Producción de películas soporte para TEM (capas carbonadas ultra‑finas 1–5 nm, horneadas para reducir contaminación).
• Preparación de muestras cryo‑SEM y flujos de transferencia criogénica.

Especificaciones técnicas

• Modelo: EM ACE600
• Tipo: Coater de alto vacío para carbono, e‑beam y sputter
• Vacío base: < 2 x 10-6 mbar (estándar)
• Mejora de vacío opcional: trampa de Meissner hasta el régimen de 10-7 mbar
• Fuentes compatibles: sputter, evaporación hilo de carbono, evaporación varilla de carbono, evaporación e‑beam
• Cámara de proceso metálico configurable de doble fuente (hasta dos fuentes distintas en un proceso)
• Cobertura de plato: optimizada para uniformidad en 100 mm
• Distancia de muestra y ángulo de recubrimiento ajustables; etapa giratoria para deposición homogénea
• Control de espesor de película de carbono: deposición precisa (películas ultra‑finas típicas 1–5 nm)
• Capacidad de sombreado rotatorio (LARS) para deposición metálica en ángulo bajo
• Compatibilidad cryo: interfaz de transferencia cryo, etapa cryo, dispositivo básico de fractura
• Carga: carga por puerta frontal para manipulación segura
• Interfaz de usuario: pantalla táctil basada en flujos de trabajo, procesamiento automatizado por recetas
• Actualizable: opciones de actualización in situ (fuentes, etapas, glow discharge)
• Uso previsto: Solo para uso en investigación