C-Root Dental Medical

Tecnología patentada: Tras siete años de desarrollo de silicato de estroncio patentado para selladores de conductos radiculares de nueva generación, seguimos comprometidos con la innovación continua, aportando nuevos productos dentales al mercado

Fuerte equipo de I+D: Nuestro equipo de I+D está formado por endodoncistas experimentados, profesores de odontología y científicos especializados en materiales de prestigiosas instituciones como la Universidad de Toronto, la Universidad de Hong Kong y la Universidad de Tianjin

Cobertura mundial: C-Root Dental opera a escala mundial, con sede en China y oficinas en Estados Unidos y Canadá. Nuestro equipo, con sede en Norteamérica y Asia, está compuesto por profesionales de universidades de primer nivel, lo que garantiza los más altos estándares de experiencia e innovación

C-Root Dental Medical Company se ha comprometido a avanzar en el campo del tratamiento de conductos radiculares liderando la investigación, el desarrollo y la producción mundial de biomateriales de última generación y dispositivos de vanguardia.