Espectrómetro infrarrojo IconIR300™

AFMde inspecciónpara nanotecnología

Añade 300 mm de acceso a muestras para I+D de semiconductores, análisis de fallos e identificación de nanocontaminantes El sistema Dimension IconIR300™ nanoIR para muestras grandes ofrece una caracterización a nanoescala rápida y de alta precisión para aplicaciones de semiconductores, compatible con un amplio espectro de tipos de materiales y tamaños de muestra de hasta obleas de 300 mm. Al combinar la espectroscopia IR fototérmica patentada con el mapeo avanzado de propiedades AFM, IconIR300 permite la inspección automatizada de obleas y la identificación de defectos en muestras que desafían las técnicas convencionales. La arquitectura del sistema permite la obtención rápida de imágenes químicas y el análisis cuantitativo, ampliando las capacidades de AFM-IR a nuevos segmentos y materiales semiconductores. La automatización integrada de las mediciones basadas en recetas y el robusto software de análisis de datos agilizan los flujos de trabajo, garantizando mediciones reproducibles y de alto rendimiento para el desarrollo de procesos, el control de calidad y los entornos de producción. Oblea completa caracterización de propiedades químicas y materiales a nanoescala Combina la espectroscopia IR y la cartografía de propiedades AFM para realizar mediciones no destructivas de gran precisión en obleas de 200 mm y 300 mm. Sin ambigüedades identificación de nanocontaminantes orgánicos/inorgánicos Mejora la calidad de las obleas semiconductoras y las fotomáscaras con datos AFM-IR fototérmicos que se correlacionan directamente con las bibliotecas FTIR. Automatizado automatizadas basadas en recetas Ofrece un acceso sencillo a datos completos y compatibilidad con archivos KLARF. o que ofrece el sistema Dimension IconIR300: Medición no destructiva de obleas completas de 200 mm y 300 mm; Identificación inequívoca de nanocontaminantes orgánicos e inorgánicos en obleas semiconductoras