Espectrómetro infrarrojo IconIR300™

AFMde inspecciónpara nanotecnología

Añade 300 mm de acceso a muestras para I+D de semiconductores, análisis de fallos e identificación de nanocontaminantes El sistema Dimension IconIR300™ de nanoIR para muestras grandes proporciona una caracterización a nanoescala de alta velocidad y gran precisión para aplicaciones de semiconductores, presentando capacidades, tamaño de muestra y flexibilidad de tipo de material sin rival. Gracias a su combinación de espectroscopia IR fototérmica patentada y capacidades de mapeo de propiedades AFM a nanoescala, IconIR300 permite la inspección automatizada de obleas y la identificación de defectos en la más amplia gama de muestras de obleas y fotomáscaras. El sistema amplía significativamente la aplicación de la tecnología AFM-IR a segmentos de la industria de semiconductores fuera del alcance de las técnicas tradicionales. Basado en la innovadora arquitectura para muestras grandes del sistema Dimension IconIR, IconIR300 ofrece microscopía correlativa e imágenes químicas, así como una mayor resolución y sensibilidad. Integrado con la manipulación automatizada de obleas y un software avanzado de recopilación y análisis de datos, el sistema permite ahorrar tiempo y costes y aumentar la eficacia de la producción. Oblea completa caracterización de propiedades químicas y materiales a nanoescala Combina la espectroscopia IR y la cartografía de propiedades AFM para realizar mediciones no destructivas de gran precisión en obleas de 200 mm y 300 mm. Sin ambigüedades identificación de nanocontaminantes orgánicos/inorgánicos Mejora la calidad de las obleas semiconductoras y las fotomáscaras con datos AFM-IR fototérmicos que se correlacionan directamente con las bibliotecas FTIR. Automatizado automatizadas basadas en recetas Ofrece un acceso sencillo a datos completos y compatibilidad con archivos KLARF. Sólo el sistema Dimension IconIR300 proporciona: