Microscopio FIB-SEM NX2000

de laboratoriopara la investigaciónde inspección

Los sistemas FIB-SEM se han convertido en una herramienta indispensable para la caracterización y el análisis de las últimas tecnologías y los materiales a nanoescala de alto rendimiento. Una demanda cada vez mayor de láminas TEM ultrafinas sin artefactos durante el procesamiento FIB requiere lo mejor en tecnologías ópticas de iones y electrones. El sistema de FIB de alto rendimiento y SEM de alta resolución NX2000 de Hitachi, con sus exclusivas tecnologías de control de la orientación de la muestra* y de triple haz*, permite la preparación de muestras de TEM de alto rendimiento y alta calidad para aplicaciones de vanguardia. * Opción Características La detección de punto final SEM de alto contraste y en tiempo real permite la preparación de muestras TEM ultrafinas de dispositivos de menos de 20 nm. El micromuestreo* y el mecanismo de posicionamiento de alta precisión* permiten el control de la orientación de la muestra para los efectos anticurtiformes (función ACE) y las láminas de grosor uniforme. Sistema de triple haz* Configuración de triple haz para la reducción de daños inducidos por Ga FIB. Especificaciones Columna FIB Tensión de aceleración - 0,5 kV - 30 kV Corriente del haz - 0,05 pA - 100 nA Columna FE-SEM Tensión de aceleración - 0,5 kV - 30 kV Fuente de electrones - Fuente de emisión de campo de cátodo frío Detector Detector estándar - SED superior/inferior y BSED Etapa - X: 0 - 205 mm Y: 0 - 205 mm Z: 0 - 10 mm R: 0 - 360° infinito T: -5 - 60° Accesorios especiales (Opcional) Iones Ar/Xe 3ª columna Sistema de micromuestreo Sistema de inyección multigas Sistema de doble inclinación Función de oscilación (para la 3ª columna de iones Ar/Xe) Asistente de preparación de muestras TEM Software automático de preparación de muestras TEM Software de navegación CAD Software de vinculación con instrumentos de inspección de defectos