Los sistemas de plasma Tetra 30 se utilizan principalmente en los siguientes ámbitos:
Análisis (microscopio electrónico de barrido o de transmisión)
Arqueología
Automoción
Biotecnología
Tratamiento de elastómeros
Electrotecnia
Microscopía electrónica
Mecánica de precisión
Investigación y desarrollo
Tecnología de semiconductores
Fabricación en series reducidas
Tratamiento de plásticos
Ingeniería médica
Tecnología de microsistemas
Tecnología de células solares
Ingeniería textil
Modelo 1: sistema estándar
Control por BASIC PC en el equipo básico tipo A
Cámara de vacío, rectangular, aluminio, puerta con bisagra
(An: 305 mm, P: 370 mm, Al: 300 mm)
Alimentación de gas:
MFC
Modelo 2: sistema estándar
Control por FULL PC en el equipo básico tipo A
Cámara de vacío, rectangular, aluminio, puerta con bisagra
(An: 305 mm, P: 370 mm, Al: 300 mm)
Alimentación de gas:
MFC
Modelo 3: sistema de gas corrosivo (p. ej., para gases de proceso fluorados)
Control por BASIC PC en el equipo básico tipo A
(An 600 mm × P 800 mm × Al 1700 mm)
Cámara de vacío, rectangular, aluminio, puerta con bisagra
(An: 305 mm, P: 370 mm, Al: 300 mm)
Alimentación de gas:
MFC
Modelo 4: sistema de gas corrosivo (p. ej., para gases de proceso fluorados)
Control por FULL PC en el equipo básico tipo A
(An 600 mm × P 800 mm × Al 1700 mm)
Cámara de vacío, rectangular, aluminio, puerta con bisagra
(An: 305 mm, P: 370 mm, Al: 300 mm)
Alimentación de gas:
MFC