Microscopio STEM HF5000
TEMde laboratoriopara investigación en materiales

Microscopio STEM - HF5000 - Hitachi High-Tech Europe GmbH - TEM / de laboratorio / para investigación en materiales
Microscopio STEM - HF5000 - Hitachi High-Tech Europe GmbH - TEM / de laboratorio / para investigación en materiales
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Características

Tipo
TEM, STEM
Aplicaciones
de laboratorio, para investigación en materiales
Técnica de observación
BF-STEM, DF-STEM
Configuración
de pie
Fuente de electrones
de emisión de campo frío
Tipo de detector
de electrones secundarios
Otras características
alta resolución, automatizado, para nanotecnología
Aumento

Máx.: 8.000.000 unit

Mín.: 20 unit

Resolución espacial

0,08 nm, 0,1 nm

Descripción

Se alcanza una resolución espacial de 0,078 nm en STEM, junto con una gran capacidad de inclinación de la muestra y uno o varios detectores EDX de amplio ángulo sólido, todo ello en una configuración con un único objetivo. El HF5000 se basa en las características del STEM dedicado Hitachi HD-2700, incluyendo el corrector de aberraciones totalmente automatizado propio de Hitachi, el EDX simétrico de doble SDD y la obtención de imágenes SE con corrección de Cs. También incorpora las tecnologías avanzadas de TEM/STEM desarrolladas en la serie HF. La integración de estas tecnologías acumuladas en una nueva plataforma TEM/STEM de 200 kV da como resultado un instrumento con una combinación óptima de imagen y análisis sub-Å, así como la flexibilidad y las capacidades únicas necesarias para abordar los estudios más avanzados. Características Corrector de aberración esférica de formación de sonda totalmente automatizado de Hitachi Cañón de electrones de FE frío (Cold FEG) de alto brillo y alta estabilidad Columna y fuentes de alimentación ultrastables para un rendimiento mejorado del instrumento Capacidad de obtención simultánea de imágenes SEM y STEM con corrección de Cs y resolución atómica Nueva platina de entrada lateral de alta estabilidad y portamuestras Detectores EDX* duales de 100 mm² dispuestos simétricamente en oposición: «Symmetrical Dual SDD*» Carcasa de nuevo diseño para un rendimiento óptimo en entornos de laboratorio reales Una amplia gama de portamuestras avanzados de Hitachi* FEG en frío de alto brillo × Alta estabilidad × Corrector de aberraciones automatizado de Hitachi El nuevo FEG en frío de alta estabilidad utiliza una versión completamente rediseñada de la tecnología de fuente de electrones de emisión de campo en frío de Hitachi, consolidada desde hace tiempo. También se ha optimizado la estabilidad total del sistema con el fin de lograr imágenes con resolución inferior al Å. La columna, las fuentes de alimentación

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* Los precios no incluyen impuestos, gastos de entrega ni derechos de exportación. Tampoco incluyen gastos de instalación o de puesta en marcha. Los precios se dan a título indicativo y pueden cambiar en función del país, del coste de las materias primas y de los tipos de cambio.