Sistema de producción PlasmaPro 100 Nano CVD

Herramientas de deposición química en fase vapor (CVD) y PECVD para el crecimiento de nanomateriales y heteroestructuras 1D/2D. PlasmaPro 100 Nano (anteriormente Nanofab) ofrece un crecimiento de nanomateriales de alto rendimiento con activación de catalizadores in situ y un riguroso control del proceso, con temperaturas flexibles de hasta 1.200 °C. Excelente uniformidad con temperaturas flexibles de hasta 1.200°C Opciones de mesa de 700°C, 800°C o 1200°C Tamaños de muestra de hasta 200 mm Bloqueo de carga al vacío - Cambio rápido de muestras Diseño de pared fría con suministro uniforme de precursores mediante cabezal de ducha Sistema opcional de suministro de fuente líquida/sólida para el crecimiento de MoS2,MoSe2 y otros TMDCs Excelente uniformidad con temperaturas flexibles de hasta 1200°C Opciones de mesa de 700°C, 800°C o 1200°C Tamaños de muestra de hasta 200 mm Bloqueo de carga al vacío - Cambio rápido de muestras Diseño de pared fría con suministro uniforme de precursores mediante cabezal de ducha Sistema opcional de suministro de fuente líquida/sólida para el crecimiento de MoS2,MoSe2 y otros TMDCs Asistencia mundial al cliente Oxford Instruments se compromete a proporcionar un soporte global al cliente completo, flexible y fiable. Ofrecemos un servicio de excelente calidad durante toda la vida útil de su sistema. El software de diagnóstico remoto proporciona un diagnóstico y resolución de fallos rápido y sencillo. Existen contratos de asistencia que se adaptan al presupuesto y a la situación. Repuestos globales en ubicaciones estratégicas para una respuesta rápida.